溶融炉
溶融炉(ようゆうろ)は、工業原料やごみを直接に高温で溶かす直接溶融炉と、焼却により生じた不燃物(残渣)や飛灰を高温で溶かす灰溶融炉の2つがある。
浮遊炉
溶融炉の一種で原料を浮遊させた状態で溶融する。坩堝を使用しないので溶融時に坩堝に起因する不純物の混入を防ぐ事が出来る。一般的に無重力環境下での使用が知られているが、保持方法によっては重力環境下でも使用できる。
加熱方法
- 誘導加熱
- 溶融物が導電性物質である程度の電気抵抗を持つ場合誘導加熱で溶融対象内部に電流を流しジュール熱で加熱する。
- マイクロ波加熱
- マイクロ波を照射することで溶融物内部の分子を振動させることにより加熱する。
- 電弧式加熱
- アーク放電によって加熱する。直流アークの場合溶融物が電極に引き寄せられる為、高周波アーク状放電を使用する。
- 光加熱
- 主に赤外線をレンズや放物面鏡で集光したり回転楕円面の一方の焦点に光源(熱源)を置き、もう一方の焦点に集光するという方法がとられる。
- ガス加熱
- 水素等の燃焼ガスや高温に加熱したガスや加熱蒸気を溶融物にあてる。ガスの流れによって保持に影響を与える。またガスの噴射ノズルが金属等導電性の場合保持方法によっては影響を受ける。
保持方法
用途
不純物の混入を極度に避ける必要がある材料実験等に用いられる。構造上大規模なものは困難で高付加価値の半導体材料等に用いられる。
脚注
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