胡正明

チェンミン・カルヴァン・フー(Chenming Calvin Hu)こと胡 正明（こ せいめい、1947年7月12日 - ）は、中華民国生まれのアメリカ合衆国の電子工学者である。マイクロエレクトロニクスを専門とする。カリフォルニア大学バークレー校電子工学・計算機科学部でTSMC特別名誉教授を務めている。

胡正明
生誕 (1947-07-12) 1947年7月12日（76歳）
中華民国の旗 中華民国 北平市
別名 チェンミン・カルヴァン・フー
居住 アメリカ合衆国の旗 アメリカ合衆国
研究分野 電子工学
研究機関 カリフォルニア大学バークレー校
出身校
主な受賞歴
公式サイト
people.eecs.berkeley.edu/~hu/
プロジェクト:人物伝
胡 正明
各種表記
拼音： Hú Zhèngmíng
英語名： Chenming Calvin Hu

IEEEは胡について、「マイクロエレクトロニクスの先見者であり、金属酸化膜半導体(MOS)の信頼性とデバイスモデリングに関する彼の業績は、電子デバイスの継続的なスケーリングに大きな影響を与えた」と評している[1]。

生涯

胡は1947年に北平で生まれ、幼少期に家族で台湾に渡った。1968年に台北の国立台湾大学電気工学科を卒業し、アメリカに留学した。カリフォルニア大学バークレー校で1970年に修士号、1973年に博士号を取得した[1]。1976年から、同大学の電気工学・計算機科学部で教員を務める[2]。

胡はマイクロエレクトロニクスの分野において大きな貢献をしている。胡はマルチゲートMOSFETデバイスであるFinFETやBSIMファミリーの開発者の一人である[1]。1980年代からは、半導体のシリコン酸化膜の信頼性について執筆している[3]。

2001年から2004年まで台湾積体電路製造(TSMC)の最高技術責任者(CTO)を務めたほか、インファイ、FormFactor、MoSys、サンディスクなどの取締役を務めた。また、Celestry Design Solutions社を設立して取締役会長を務めた[2]。

賞と栄誉

脚注
  1. “Chenming Calvin Hu, Microelectronics Visionary, to Receive 2009 IEEE Jun‐Ichi Nishizawa Medal”. IEEE. 2019年1月15日閲覧。
  2. Chenming Hu. Forbes.com. Archived August 10, 2008.
  3. David J. Dumin (2002). Oxide Reliability: A Summary of Silicon Oxide Wearout, Breakdown, and Reliability. River Edge, New Jersey: World Scientific. p. 7. ISBN 9789810248420. https://books.google.com/books?id=0defVd0PkDwC&pg=PR7
  4. “NAE Members Directory - Dr. Chenming Hu”. NAE. 2019年1月15日閲覧。
  5. “IEEE Jack A. Morton Award Recipients”. IEEE. 2019年1月15日閲覧。
  6. “IEEE Donald O. Pederson Award in Solid-State Circuits Recipients”. IEEE. 2019年1月15日閲覧。
  7. “Paul Rappaport Award”. IEEE. 2019年1月15日時点のオリジナルよりアーカイブ。2019年1月15日閲覧。
  8. “IEEE Jun-ichi Nishizawa Medal Recipients”. IEEE. 2019年1月15日閲覧。
  9. Mark LaPedus (June 17, 2009). Hu receives IEEE award. EE Times. Archived July 9, 2016.
  10. “Phil Kaufman Award for Distinguished Contributions to EDA”. IEEE. https://ieee-ceda.org/awards/phil-kaufman-award-distinguished-contributions-eda 2019年1月15日閲覧。
  11. “Chenming Hu”. 2019年1月15日閲覧。
  12. “Chenming Hu awarded the 2020 ieee medal of honor”. 2020年4月22日閲覧。
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