立命館大学ローム記念館
概要
マイクロエレクトロニクスの研究拠点として、また次世代半導体産業を担う人材育成拠点として2000年4月に開設。
文部科学省の私立大学ハイテクリサーチセンター整備事業に採択され、「インテリジェント・シリコンソサエティの研究」を行っている。建設費約15億円はローム株式会社代表取締役社長の佐藤研一郎によって出資された。
大小会議室を備え、研究活動だけでなく講演会場やコンサート会場としても利用されている。
施設概要
- 地上5階建
- 6349.47平方メートル(延べ面積)
- 研究室(計11室)
- 実験室(計12室)
- 会議室
- 準備室
主な設備
- 基盤情報処理ネットワーク
- LSI研究用映像通信装置
- ULSIデザインオートメーション研究装置
- 並列マルチマイクロプロセッサモジュール研究装置
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